Giảm phụ thuộc ASML, Trung Quốc tự sản xuất máy quang khắc DUV

Trung Quốc đã bắt đầu sản xuất hàng loạt máy quang khắc DUV ngâm (immersion DUV) do nước này tự phát triển. Đây là một trong những thiết bị quan trọng nhất trong chuỗi sản xuất chip bán dẫn tiên tiến

Dù chưa thể cạnh tranh trực tiếp với ASML, bước tiến này được xem là dấu mốc mới trong tham vọng tự chủ công nghệ bán dẫn của Bắc Kinh.

Dự án do Shanghai Aishengna Electronic Technology Group - một doanh nghiệp nhà nước ít tên tuổi - dẫn dắt. Công ty này được thành lập năm 2023 và đã tiếp nhận đội ngũ kỹ sư từ 2 doanh nghiệp quang khắc hàng đầu Trung Quốc là Shanghai Micro Electronics Equipment (SMEE) và Yuliangsheng.

Theo trang The Information, Aishengna dự kiến sản xuất khoảng 5 máy trong năm 2026 và nâng lên 20 máy vào năm 2027.

Các máy DUV do Trung Quốc phát triển dự kiến sẽ được bàn giao trong năm nay cho những nhà sản xuất chip lớn như SMIC, Hua Hong Semiconductor và ChangXin Memory Technologies (CXMT).

Tham vọng tự chủ bán dẫn

Máy quang khắc DUV ngâm sử dụng một lớp nước giữa thấu kính và tấm wafer silicon để in các mạch bán dẫn có kích thước nhỏ hơn so với công nghệ DUV khô truyền thống.

Kết hợp với kỹ thuật đa phơi sáng (multiple patterning), loại thiết bị này vẫn có thể sản xuất nhiều dòng chip tiên tiến dù không đạt trình độ của công nghệ EUV.

Trong nhiều năm qua, ASML gần như thống trị tuyệt đối thị trường máy quang khắc DUV và là nhà cung cấp duy nhất trên thế giới đối với máy quang khắc EUV. 

Tuy nhiên, các biện pháp kiểm soát xuất khẩu của Mỹ và Hà Lan đã khiến Trung Quốc không thể tiếp cận các hệ thống EUV, đồng thời bị hạn chế mua một số dòng máy DUV hiện đại. Điều này buộc Bắc Kinh phải đẩy nhanh chương trình tự chủ thiết bị bán dẫn - một trong những ưu tiên công nghệ hàng đầu của Chủ tịch Tập Cận Bình.

Nếu được triển khai thành công, các máy DUV "Made in China" sẽ giúp các hãng sản xuất chip trong nước giảm phụ thuộc vào thiết bị nhập khẩu, đồng thời có thêm phương án dự phòng nếu phương Tây tiếp tục siết xuất khẩu hoặc hạn chế dịch vụ bảo trì đối với các hệ thống hiện có.

Khoảng cách với ASML vẫn còn rất lớn

Dù vậy, theo nguồn tin của Reuters, mẫu máy của Aishengna vẫn cần trải qua thêm nhiều đợt thử nghiệm và còn cách khá xa các hệ thống DUV của ASML về hiệu suất, độ chính xác cũng như độ ổn định trong vận hành.

Các chuyên gia của JPMorgan cũng cho rằng việc chế tạo được một vài máy DUV mới chỉ là bước khởi đầu.

Theo nhóm phân tích này, năng lực sản xuất hàng loạt mới là yếu tố quyết định. Một hệ thống quang khắc chỉ thực sự cạnh tranh khi có thể vận hành ổn định trong hàng nghìn chu kỳ sản xuất wafer với tỷ lệ thành phẩm cao, tốc độ xử lý lớn và sai số căn chỉnh cực thấp.

Điều đó đồng nghĩa, bước tiến mới của Trung Quốc chưa tạo ra sức ép đáng kể lên triển vọng kinh doanh của ASML trong trung hạn.

Thực tế, Trung Quốc vẫn là một trong những thị trường quan trọng nhất của ASML, đóng góp khoảng 16% doanh thu thuần trong nửa đầu năm 2026. Do chưa thể tiếp cận máy EUV, các nhà sản xuất chip Trung Quốc vẫn tiếp tục mua mạnh các dòng máy DUV được phép xuất khẩu.

Cuối năm ngoái, Reuters từng đưa tin Trung Quốc đã chế tạo thành công nguyên mẫu máy quang khắc EUV. Tuy nhiên, công nghệ này được cho là vẫn còn cách nhiều năm nữa mới có thể bước vào giai đoạn sản xuất thương mại.

Nguồn tham khảo: Reuters